格隆汇3月7日丨清溢光电近日在接待机构投资者调研时表示，平板显示掩膜版方面，公司陆续引进新的光刻机设备，后续将进一步提升产能。

半导体掩膜版业务方面，公司目前已拥有业内先进的激光光刻机，CD精度可达到130nm掩膜版的要求。佛山生产基地项目拟引入的光刻设备将不限于激光光刻机，也将适时考虑引入电子束光刻机。由于半导体光刻机的采购周期较长，公司技术方面正在逐步提升，公司将分步投资，具体请关注公司后续披露的相关公告。